10多年污水處理設(shè)備廠家
擁有環(huán)保工程三級資質(zhì)等
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研磨含銅廢水的處理需要結(jié)合銅的存在形態(tài)（如游離銅離子、絡(luò)合銅等）、廢水特性（pH、濃度、共存物質(zhì)）及排放標(biāo)準(zhǔn)，選擇合適的技術(shù)組合。以下是常見的處理系統(tǒng)和步驟：
檢測項(xiàng)目：總銅、溶解性銅、pH、COD、懸浮物（SS）、絡(luò)合劑（如EDTA、氨等）、其他重金屬。
預(yù)處理：
中和調(diào)節(jié)：若廢水酸性強(qiáng)，先用石灰（Ca(OH)?）或氫氧化鈉（NaOH）調(diào)節(jié)pH至中性（7~9），使銅初步沉淀。
去除懸浮物：通過沉淀、過濾或氣浮分離研磨過程中產(chǎn)生的顆粒物。
適用性：適用于高濃度游離銅離子廢水（如Cu2?）。
方法：
氫氧化物沉淀：調(diào)節(jié)pH至9~11，銅形成Cu(OH)?沉淀（需避免pH過高導(dǎo)致返溶）。
硫化物沉淀：加入Na?S或FeS，生成更穩(wěn)定的CuS沉淀（殘余硫需處理，避免二次污染）。
藥劑：石灰、NaOH、硫化鈉、PAC（聚合氯化鋁）或PAM（聚丙烯酰胺）助凝。
設(shè)備：反應(yīng)池、沉淀池（如斜板沉淀）、板框壓濾機(jī)（污泥脫水）。
破絡(luò)合：若含EDTA、氨等絡(luò)合劑，需先氧化或沉淀破絡(luò)：
氧化法：芬頓（H?O?+Fe2?）、次氯酸鈉（NaClO）或臭氧（O?）破壞絡(luò)合物。
置換法：加入Fe3?或Ca2?置換銅離子，再沉淀。
適用性：低濃度含銅廢水（<100 mg/L）或深度處理。
樹脂類型：螯合樹脂（如亞氨基二乙酸型）選擇性吸附銅離子。
再生：用酸（如H?SO?）洗脫樹脂，回收銅資源。
電滲析/反滲透：適合高純度回用需求，但膜易污染，需預(yù)處理。
優(yōu)點(diǎn)：出水水質(zhì)好，可回用；缺點(diǎn)：成本高，濃水需進(jìn)一步處理。
適用性：高濃度含銅廢水（如>500 mg/L）。
方法：電解槽中銅離子在陰極還原為金屬銅，回收利用。
注意：需控制pH和電流密度。
活性炭吸附：去除微量銅及有機(jī)物。
生物處理：如生物硫化物工藝（硫酸鹽還原菌生成S2?沉淀銅）。
回用方案：處理后的水可用于研磨工序沖洗或綠化。
污泥性質(zhì)：含銅沉淀物屬于危險(xiǎn)廢物（HW22）。
處理方式：
脫水后交由危廢資質(zhì)單位處置。
資源化：酸浸回收銅（如用H?SO?溶解后電解）。
廢水 → 格柵 → 調(diào)節(jié)池（pH調(diào)節(jié)） → 破絡(luò)反應(yīng)池（如需） → 化學(xué)沉淀 → 絮凝沉淀 → 砂濾 → 離子交換/膜處理 → 達(dá)標(biāo)排放/回用
↓
污泥脫水 → 危廢處置
排放標(biāo)準(zhǔn)：參考《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB 8978-1996），總銅限值0.5~1.0 mg/L。
自動(dòng)化控制：在線pH監(jiān)測、ORP儀（氧化還原電位）優(yōu)化藥劑投加。
成本考量：化學(xué)沉淀法成本低，膜技術(shù)投資高但回用效益顯著。
某電子廠研磨含銅廢水處理：
原水：Cu2? 200 mg/L，pH=3，含微量EDTA。
流程：中和（pH至9）→ 芬頓氧化破絡(luò) → 硫化鈉沉淀 → 過濾 → 出水Cu<0.3 mg/L。
如需具體設(shè)計(jì)參數(shù)或方案優(yōu)化，建議提供更詳細(xì)的水質(zhì)數(shù)據(jù)和處理規(guī)模。
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